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产品名称: 毒素分析专用薄层色谱系统
产品型号: HAD-3000H型
品牌:
产品数量:
产品单价: 面议
日期: 2023-12-22

毒素分析专用薄层色谱系统的详细资料


1.毒素分析专用薄层色谱系统/亚欧德鹏毒素分析专用薄层色谱系统   型号:HAD-3000H型

   薄层色谱法是在黄曲霉毒素研究方面应用广的分离术,1990年它被列为AOAC标准方法,该方法同时具有定量与定性分析黄曲霉素的能。薄层色谱法也常被用来检测其他霉菌毒素。它能鉴定样品中种或多种霉菌毒素,如要行定量测定须有薄层色谱扫描法作辅助。本法适用于对多种霉菌毒素(如黄曲霉毒素、玉米赤霉烯酮、赭曲霉素等)行定性与定量的测定。

    薄层色谱的原理是样品中的霉菌毒素经提取浓缩和利用单向或双向展开法在薄层上分离后,在紫外光照射下产生荧光,根据薄层上显示出的荧光zui低检出量就能对霉菌毒素行定量,测定灵敏度达5µg/kg。薄层色谱检验具有结果,方法重现性好,回收率(可达85%-)等特点。

当分析物被染色或具有荧光性时,薄层色谱扫描法具有较的性,并且不需要化学衍生显色。在点样前几乎不需要对分析物行提纯。在某些情况下样品杂质多时可采用二维薄层色谱法局或固相萃取-薄层色谱联用方法检测霉菌毒素。薄层色谱法可以检测到未知的霉菌毒素,而其他的定量方法却不能。

与HPLC法相比,薄层色谱法具有抗干扰能力强、简便易行、离线可反复检测等优点,起劲仍在真菌毒素检测域占主导地位。传统的TLC法与固相萃取法相结合,步即可成净化过程。仅用单向即可达到分离鉴定目的,不仅节省了作时间,而且步减少了有毒有害溶剂的用量,提了作效率,主要用于食品检验相关机构的霉菌毒素分析作。

毒素分析专用薄层色谱系统主要特点:

1、  只保留汞灯365 nm荧光光源,适应专业毒素荧光分析需要;

2、  使用光栅单色器,激发光的性;

3、  增加了固相萃取附件,前处理的简便性;

4、  增加了点样、观察、加热模块,了分析流程的贯性;

 

毒素分析专用薄层色谱系统标;

1、  发射光源:365nm;

2、  激发单色器:1200线/mm光栅;

3、  发射单色器:K400;

4、  薄层板尺寸:200×200mm;

5、  固相萃取模式;正压型,zui大压力100psi;

6、  固相萃取通道:24个;

7、  观察室波长:365 nm;

8、  加热温度:室温~300℃;

9、  点样范围:0~100µl;

 

HAD3000H型组成

1、  主机(包括激发光源、激发单色器、发射单色器、X-Y移动平台、检测器、观察灯、加热模块、点样模块);

2、  正压型固相萃取装置;

3、  HAD-3000毒素分析专用薄层色谱作站;

要求:请选用HAD-3100型能薄层色谱扫描仪;








2.
台式数显匀胶台 数显匀胶台 匀胶台 型号:GP/SJT-B

GP/ SJT系列数显匀胶台是集成电路、半导体电路、掩模版制、激光息商标制过程中用于在基片上行光刻胶涂布的专用设备。
GP/SJT-B型台式数显匀胶台采用双转速机构:启动后,以低速运转,使胶摊开,到设定的时间后,自动转换到速运转,使光刻胶在基片上形成厚度均匀的胶膜。其双匀胶速度和时间分别可调。转速采用数字显示,观看醒目方便。特别适合等院校、研究机构、实验室及生产线使用。
主要术参数:
1、作电源: ~220V,50HZ
2、电源率: 60W
3、装片直径: ф10~75mm(可定制)

4、转速稳定度:

±5%
5、匀胶时间: 0.01~99.99秒(可调)
6、转速范围: 1、低速:500~3000RPM(可调)  2、速:1500~8000RPM(可调)
7、zui大转速:

~8000RPM

8、外形尺寸: 230*270*260mm
9、重量: ~8kg








3.数显匀胶台/匀胶台 型号:GP/SJT-A
本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的专用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。
主要术参数:
1、作电压: 380V/220V
2、整机率: 1200W
3、匀胶时间控制范围: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分

4、转速:

0-8000Rpm
5、装片直径(可根据用户要求定制): ф35-75mm
6、匀胶位(可根据用户要求定制): 1-4位
7、外形尺寸:

长*宽*  850*810*1600mm

8、净重: 120kg
本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的专用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。
主要术参数:
1、作电压: 380V/220V
2、整机率: 1200W
3、匀胶时间控制范围: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分

4、转速:

0-8000Rpm
5、装片直径(可根据用户要求定制): ф35-75mm
6、匀胶位(可根据用户要求定制): 1-4位
7、外形尺寸:

长*宽*  850*810*1600mm

8、净重: 120kg






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